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熱應(yīng)力

熱處理殘余力是指工件經(jīng)熱處理后zui終殘存下來的應(yīng)力，對工件的形狀，尺寸和性能都有極為重要的影響。當(dāng)它超過材料的屈服強(qiáng)度時，便引起工件的變形，超過材料的強(qiáng)度極*就會使工件開裂，這是它有害的一面，應(yīng)當(dāng)減少和消除。但在一定條件下控制應(yīng)力使之合理分布，就可以提高零件的機(jī)械性能和使用壽命，變有害為有利。分析鋼在熱處理過程中應(yīng)力的分布和變化規(guī)律，使之合理分布對提高產(chǎn)品質(zhì)量有著深遠(yuǎn)的實(shí)際意義。例如關(guān)于表層殘余應(yīng)力的合理分布對零件使用壽命的影響問題已經(jīng)引起了人們的廣泛重視。1．鋼的熱處理應(yīng)...

真空爐的特點(diǎn)

（1）水冷裝置，真空熱處理爐的爐殼、爐蓋、電熱元件導(dǎo)別處置（水冷電極）、中間真空隔熱門等部件，均在真空、受熱狀態(tài)下工作：在這種極為不利的條件下工作，必須保證各部件的結(jié)構(gòu)不變形、不損壞，真空密封圈不過熱、不燒毀。因此，各部件應(yīng)該根據(jù)不同的情況設(shè)置水冷裝置，以保證真空熱處理爐能夠正常運(yùn)行并有足夠的使用壽命。（2）嚴(yán)格的真空密封：金屬零件進(jìn)行真空熱處理均在密閉的真空爐內(nèi)進(jìn)行，因此，獲得和維持爐子原定的漏氣率，保證真空爐的工作真空度，對確保零件真空熱處理的質(zhì)量有著非常重要的意義。所以...

真空爐的常識

1．真空爐處理鈦合金時，不宜用氮?dú)庾鳛槔鋮s氣體，因?yàn)殁伜偷诟邷叵路磻?yīng)，形成金黃色的氮化鈦。2．真空爐活動連接部分全部采用O型橡膠圈密封連接，此部分均通水冷卻。3．工件在真空狀態(tài)下淬火，應(yīng)使用真空淬火油，此油具有較低的飽和蒸氣壓。4．真空爐的保養(yǎng)應(yīng)在真空或充純氮狀態(tài)下，避免平時不用時吸氣，吸潮。5．國內(nèi)真空爐的壓升率應(yīng)不大于1.33Pa/h，國外某些企業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)為0.67Pa/h6．真空加熱以輻射為主，工件在爐內(nèi)應(yīng)該保持間距。7．升溫過程中，工件及爐內(nèi)材料會放氣，使真空度下降。...

真空爐的種類

一．真空感應(yīng)爐半連續(xù)式真空感應(yīng)爐：坩堝可連續(xù)澆幾個模子，不必等爐冷后，再將模子取出相對周期式真空爐而言，不必對加熱室反復(fù)抽真空，可使加熱室始終處于真空中，另外不必等爐冷后，再將模子取出，提率。二．真空電阻爐1．外熱式真空爐：（在普通井式爐爐膛中放一個真空爐罐）A．主要進(jìn)行退火操作，可通過拆去真空管道吊出爐罐進(jìn)行冷卻，可準(zhǔn)備幾個真空爐罐，進(jìn)行連續(xù)操作。2．內(nèi)熱式真空爐：（爐罐真空，爐罐和爐體之間也是真空）A．特點(diǎn)：可使?fàn)t罐內(nèi)外壓力一致，減少爐罐壁厚B．內(nèi)熱式：電阻絲懸掛在圓柱形...

氣氛對硅鉬棒的影響

氣氛對硅鉬棒的影響1、二硅化鉬電熱元件（硅鉬棒）是一種以二硅化鉬為基礎(chǔ)制成的電阻發(fā)熱元件，其在氧化氣氛下高溫使用，表面玻化，生成一層光亮致密的石英（SiO2）玻璃膜，能保護(hù)硅鉬棒不再氧化，因此硅鉬棒元件具有*的高溫抗氧化性。在氧化氣氛下，元件zui高使用溫度為1800℃，根據(jù)用戶需求可制成棒狀，U型、W型、U型直角等形狀。硅鉬棒通常可使用的爐體溫度為1300℃-1800℃，廣泛應(yīng)用于冶金、玻璃、陶瓷、磁性材料、耐火材料、晶體、電子元器件、窯爐制造等領(lǐng)域、工業(yè)高溫爐的加熱元件,...

氣氛對硅碳棒的影響

氣氛對硅碳棒的影響硅碳棒為非金屬電熱元件,是用高純度綠色六方碳化硅為主要原料,按一定料比加工制坯,經(jīng)2200℃高溫硅化再結(jié)晶燒結(jié)而制成的棒狀非金屬高溫電熱元件.正常使用溫度可達(dá)1450℃,合理使用條件下,連續(xù)使用超過2000小時,在空氣中使用,不需要任何保護(hù)氣氛.硅碳棒用途:由于硅碳棒使用溫度高,具有耐高溫、抗氧化,耐腐蝕、升溫快、壽命長、高溫變形小、安裝維修方便等特點(diǎn)。有良好的化學(xué)穩(wěn)定性。若與自動化供電系統(tǒng)配套,既可得到的恒定溫度,又可根據(jù)生產(chǎn)工藝的實(shí)際需要按曲線自動調(diào)溫。...

CVD（Chemical Vapor Deposition, 化學(xué)氣相淀積）

CVD試驗(yàn)CVD（ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相淀積），指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強(qiáng)力鋼的彎曲，拉伸等成形時產(chǎn)生的刮痕。CVD特點(diǎn)：淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時間成正比，均勻性，重復(fù)性好，臺階覆蓋性優(yōu)良。

真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)

真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)空熱處理爐是一種先進(jìn)的熱處理設(shè)備可以進(jìn)行金屬材料和工件的真空加熱、淬火、回火、退火、滲碳、滲氮、加壓氣淬等各種熱處理，也可進(jìn)行粉未冶金燒結(jié)、航空航天工件釬焊等，真空熱處理過程能使被處理材料和工件性能顯著提高，材料得到充分利用。**因而，廣義上真空爐是一種明顯節(jié)省單位能的先進(jìn)的熱處理設(shè)備。選用適當(dāng)?shù)臓t爐室內(nèi)加熱元件和隔熱材料，對于減少爐子本身能耗、提高加熱效率是有重要意義的。加熱元件一般情況可采用鎳鉻合金或鐵鉻合金，工兒溫度要求1000℃以上時，應(yīng)采用鉬、...